16.04.2025
Специалисты Академического университета совместно с ООО «Лазерный центр» ведут разработку отечественной установки прямой лазерной литографии
В данном типе оборудования используется сфокусированный лазерный луч ультрафиолетового (УФ) диапазона для экспонирования тонкого фоточувствительного слоя (фоторезиста) на поверхности образца. Разрешение прибора составляет 0,6-0,7 мкм. Задавая траекторию движения лазерного луча, а также перемещая столик с образцом, в слое фоторезиста можно создавать структуры (паттерны) заданной геометрии. Описанный метод обладает субмикронным разрешением и позволяет быстро переносить дизайн экспонирования в фоторезист без использования специализированных фотомасок.
|